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          南大光電:缺陷檢測設備對28nm以下制程芯片用光刻膠的檢測有重要作用

          每日經濟新聞 2023-02-03 16:42:02

          每經AI快訊,有投資者在投資者互動平臺提問:11月18日,你回復說“缺陷檢測設備尚未完成采購”,12月2日,你回復說“缺陷檢測設備主要針對28nm以下,而公司的ArF膠聚焦28-90nm,檢測設備如光刻機已正常投入使用” 請問,目前正常使用的光刻機是什么時候采購的?缺陷檢測設備既不是目前主要攻關課題,為何要抓緊采購?

          南大光電(300346.SZ)2月3日在投資者互動平臺表示,光刻機于2020年上半年采購進廠。 缺陷檢測設備對28nm以下制程芯片用光刻膠的檢測有重要作用。

          (記者 畢陸名)

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