ASML回應荷蘭半導體出口管制新規：并不適用于所有浸入式光刻設備

每經AI快訊，3月9日，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）9日上午發布聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”荷蘭政府在3月8日表示，計劃對半導體技術出口實施新的管制。據悉，決定是由荷蘭貿易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。盡管信中并沒有指名道姓地點出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。 (第一財經)