新三板創(chuàng)新層公司原子高科新增專利信息授權(quán)：“靶組件、靶室及加速器”

每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司原子高科（430005）新增專利信息，專利權(quán)人為原子高科，發(fā)明人是李光、段菲、溫凱、馬承偉、王曉明、趙紫宇、褚浩淼、李超、王成志、王春林。專利授權(quán)日為2024年8月13日，專利名稱為“靶組件、靶室及加速器”，專利類型為中國實(shí)用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202323030811.X。

該專利摘要顯示：本實(shí)用新型涉及加速器靶結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，提供一種靶組件、靶室及加速器。靶組件包括靶座，靶座包括容納部和卡接部，容納部中形成有環(huán)形槽且容納部的中心位置開設(shè)有第一通孔；密封環(huán)，可拆卸地安裝于環(huán)形槽；靶蓋，可拆卸地卡接于卡接部；在靶蓋卡接于卡接部的情況下，靶蓋與靶座之間適于形成用于固定靶片的安裝空間。通過在靶座的中心位置開設(shè)第一通孔，使得在輻照過程中冷卻水能夠直接與靶片實(shí)現(xiàn)接觸以對靶片以及該靶組件進(jìn)行降溫冷卻，進(jìn)而避免了在靶片中心位置形成熔穿孔，避免目標(biāo)核素?fù)p失于靶組件或系統(tǒng)。通過將靶蓋與靶座可拆卸地連接，便于對靶片的更換及后處理；通過密封環(huán)的設(shè)置，能夠?qū)崿F(xiàn)對靶片的有效壓緊，保證了靶片與該靶組件的密封。

(記者 曾健輝)

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