首發快訊

廣州開發區、黃埔區：支持光刻、清洗、刻蝕、離子注入、沉積等設備、關鍵零部件及工具國產化替代

每日經濟新聞 2025-06-17 14:37:11

每經AI快訊，《廣州開發區黃埔區支持集成電路產業高質量發展若干政策措施》近日發布。其中提出，鼓勵發展光掩模、電子氣體、光刻膠、拋光材料、高純靶材等高端半導體和傳感器制造材料。積極引進國內重點基礎材料企業，穩步提升關鍵基礎材料供應能力。重點圍繞集成電路制造關鍵部件和系統集成開展持續研發和技術攻關，支持光刻、清洗、刻蝕、離子注入、沉積等設備、關鍵零部件及工具國產化替代。對于新引進的固定資產投資1000萬元以上的產業化項目，且政策有效期內實現小升規的企業，按照不超過其設備和工器具投資額的15%分檔給予扶持，最高1000萬元。

如需轉載請與《每日經濟新聞》報社聯系。
未經《每日經濟新聞》報社授權，嚴禁轉載或鏡像，違者必究。

讀者熱線：4008890008

特別提醒：如果我們使用了您的圖片，請作者與本站聯系索取稿酬。如您不希望作品出現在本站，可聯系我們要求撤下您的作品。

上一篇文章

日本東證指數上漲0.4%，至2786.95點

返回每經網首頁

下一篇文章

以軍稱打死伊朗最高軍事指揮官