國林科技：公司高濃度臭氧水設備可用于半導體光刻膠清洗

每日經濟新聞 2021-08-23 12:01:44

每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：董秘您好！貴司用于半導體清洗行業的高濃度臭氧水設備的核心技術取得突破？請問：1.該技術是否適應第三半導體領域？2.該技術是否適應于半導體光刻膠產品領域？謝謝！

國林科技（300786.SZ）8月23日在投資者互動平臺表示，尊敬的投資者，您好。公司高濃度臭氧水設備可用于半導體光刻膠清洗。感謝您的關注。

(記者周宇翔)

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